Multiple Exposure With Image Reversal in A Single Photoresist Layer

WO2012021498 Art A2 16. Februar 2012

Anmelder: Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012021498
Aktenzeichen: EP11816910
Anmeldetag: 9. August 2011
Veröffentlichung: 16. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Virginia Tech Intellectual Properties, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Virginia Tech Intellectual Properties

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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