Electron beam apparatus

WO2012023354 Art A1 23. Februar 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012023354
Aktenzeichen: EP11818001
Anmeldetag: 7. Juli 2011
Veröffentlichung: 23. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/04H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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