Radiation-sensitive composition and novel compound
WO2012023374
Art A1
23. Februar 2012
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012023374
- Aktenzeichen
- EP11818018
- Anmeldetag
- 20. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 23. Februar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C309/06C07C309/25C07C381/12G03F7/004G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.