Texture-forming composition, method for producing silicon substrate, and kit for preparing texture-forming composition
WO2012023613
Art A1
23. Februar 2012
Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012023613
- Aktenzeichen
- EP11818253
- Anmeldetag
- 19. August 2011
- Veröffentlichung
- 23. Februar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/308H01L31/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokuyama Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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