Gas-liquid phase transition method and apparatus for cleaning of surfaces in semiconductor manufacturing

WO2012024131 Art A2 23. Februar 2012

Anmelder: Rasirc, Inc., ASML Netherlands BV 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012024131
Aktenzeichen: EP11758596
Anmeldetag: 10. August 2011
Veröffentlichung: 23. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Rasirc, Inc.
ASML Netherlands BV
Land: 🇺🇸 USA

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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