Heat dissipation structure for soi field effect transistor
WO2012025025
Art A1
1. März 2012
Anmelder: Peking University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012025025
- Aktenzeichen
- EP11819400
- Anmeldetag
- 17. August 2011
- Veröffentlichung
- 1. März 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Peking University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Peking University
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