Method for manufacturing semiconductor device, and substrate treatment device
WO2012026241
Art A1
1. März 2012
Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012026241
- Aktenzeichen
- EP11819709
- Anmeldetag
- 15. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 1. März 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/302
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Kokusai Electric Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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