Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern therewith

WO2012026621 Art A1 1. März 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012026621
Aktenzeichen: EP11820078
Anmeldetag: 26. August 2011
Veröffentlichung: 1. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/20C08F20/30C08F30/08G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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