Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, permanent pattern casting method, and print substrate

WO2012029481 Art A1 8. März 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012029481
Aktenzeichen: EP11821499
Anmeldetag: 29. Juli 2011
Veröffentlichung: 8. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/032B32B7/02B32B27/00C08G81/00G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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