Amorphous silicon nitride film and method for producing same

WO2012029709 Art A1 8. März 2012

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012029709
Aktenzeichen: EP11821725
Anmeldetag: 29. August 2011
Veröffentlichung: 8. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/34G02F1/1333H01L21/205H01L21/768H01L23/522H01L31/04H01L33/44H01L51/50H05B33/02H05B33/04H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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