Method for producing photosensitive resin and photosensitive resin composition

WO2012029806 Art A1 8. März 2012

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012029806
Aktenzeichen: EP11821821
Anmeldetag: 30. August 2011
Veröffentlichung: 8. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08G8/28C08L63/00G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von