Thin-film transistor substrate, method for producing same, and display device
WO2012032749
Art A1
15. März 2012
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012032749
- Aktenzeichen
- EP11823229
- Anmeldetag
- 2. September 2011
- Veröffentlichung
- 15. März 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/786G02F1/1368G09F9/30H01L21/28H01L21/336H01L21/8238H01L27/08H01L27/092
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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