Patterning method, chemically-amplified resist composition, and resist film

WO2012036090 Art A1 22. März 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012036090
Aktenzeichen: EP11825093
Anmeldetag: 9. September 2011
Veröffentlichung: 22. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von