Polymer, resist material containing same, and method for forming pattern using same

WO2012036128 Art A1 22. März 2012

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012036128
Aktenzeichen: EP11825130
Anmeldetag: 12. September 2011
Veröffentlichung: 22. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/26G03F7/004G03F7/039G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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