Conveyance device, substrate processing system, and attitude control mechanism

WO2012036189 Art A1 22. März 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Sankyo Seisakusho Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012036189
Aktenzeichen: EP11825189
Anmeldetag: 14. September 2011
Veröffentlichung: 22. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B25J9/06B65G49/07H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Sankyo Seisakusho Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verpackungs- & Fördertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von