Reflectivity measuring device, reflectivity measuring method, membrane thickness measuring device, and membrane thickness measuring method

WO2012036213 Art A1 22. März 2012

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012036213
Aktenzeichen: EP11825213
Anmeldetag: 14. September 2011
Veröffentlichung: 22. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/27

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hamamatsu Photonics K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

1.968 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von