Thin-film semiconductor crystallinity evaluation apparatus, using -pcd method
WO2012039099
Art A1
29. März 2012
Anmelder: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho, Kobelco Research Institute, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012039099
- Aktenzeichen
- EP11826550
- Anmeldetag
- 1. September 2011
- Veröffentlichung
- 29. März 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho
Kobelco Research Institute, Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kobe Steel
Japanischer Stahl- und Maschinenbaukonzern mit Sitz in Kobe, tätig in den Bereichen Stahl, Aluminium, Maschinenbau und Schweißtechnik.
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