Silicon-containing composition for formation of resist underlayer film, which contains organic group containing protected aliphatic alcohol

WO2012039337 Art A1 29. März 2012

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012039337
Aktenzeichen: EP11826783
Anmeldetag: 14. September 2011
Veröffentlichung: 29. März 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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