Semiconductor device and method for forming the same
WO2012041087
Art A1
5. April 2012
Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012041087
- Aktenzeichen
- EP11827983
- Anmeldetag
- 27. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 5. April 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/06H01L21/02H01L29/12H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tsinghua University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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