Resist pattern forming method, and method for processing base plate using same

WO2012042862 Art A1 5. April 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012042862
Aktenzeichen: EP11828428
Anmeldetag: 28. September 2011
Veröffentlichung: 5. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B29C59/02G11B5/84H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von