Polymeric thin film having silsesquioxane, fine structure, and processes for producing these

WO2012043114 Art A1 5. April 2012

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012043114
Aktenzeichen: EP11828675
Anmeldetag: 31. August 2011
Veröffentlichung: 5. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08J5/18B32B27/00B82Y30/00B82Y40/00C08F293/00C08J9/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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