Cleaning solution and cleaning method for semiconductor-device substrate

WO2012043767 Art A1 5. April 2012

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012043767
Aktenzeichen: EP11829320
Anmeldetag: 29. September 2011
Veröffentlichung: 5. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D1/14C11D1/18C11D1/22C11D1/24C11D1/28C11D3/20C11D3/37H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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