Polyamide composition having excellent surface reflectance and heat resistance
WO2012043936
Art A1
5. April 2012
Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012043936
- Aktenzeichen
- EP10857936
- Anmeldetag
- 28. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 5. April 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L77/00C08K7/14C08K3/00C08K5/17
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cheil Industries Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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