Low-Temperature Dielectric Film Formation By Chemical Vapor Deposition

WO2012044622 Art A2 5. April 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012044622
Aktenzeichen: EP11829803
Anmeldetag: 27. September 2011
Veröffentlichung: 5. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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