Substrate plasma treatment method

WO2012046418 Art A1 12. April 2012

Anmelder: Panasonic Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012046418
Aktenzeichen: EP11830352
Anmeldetag: 29. September 2011
Veröffentlichung: 12. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Panasonic Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Panasonic

Japanischer Konzern, der Haushaltsgeräte, Unterhaltungselektronik, Batterien sowie Komponenten und Lösungen für Industrie und Automobilbau entwickelt und herstellt.

55.014 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von