Rutile-titanium-dioxide microparticle dispersion liquid, manufacturing method therefor, and member having rutile-titanium-dioxide thin film on surface thereof

WO2012046493 Art A1 12. April 2012

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012046493
Aktenzeichen: EP11830426
Anmeldetag: 28. Juli 2011
Veröffentlichung: 12. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C01G23/00

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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