Resist composition for negative development which is used for foermation of guide pattern, guide pattern formation method, and method for forming pattern on layer containing block copolymer

WO2012046770 Art A1 12. April 2012

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Riken 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012046770
Aktenzeichen: EP11830702
Anmeldetag: 5. Oktober 2011
Veröffentlichung: 12. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Riken
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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🇯🇵 RIKEN

Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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