(meth)acrylate-based polymer and photosensitive resin composition including same

WO2012046917 Art A1 12. April 2012

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012046917
Aktenzeichen: EP10858192
Anmeldetag: 9. Dezember 2010
Veröffentlichung: 12. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/10C08F20/18C08L33/04G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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