Patterning method of semiconductor and semiconductor device that contains pattern formed by patterning method

WO2012046991 Art A2 12. April 2012

Anmelder: Postech Academy-Industry Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012046991
Aktenzeichen: EP11830876
Anmeldetag: 4. Oktober 2011
Veröffentlichung: 12. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Postech Academy-Industry Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Postech Academy-Industry Foundation

Die Postech Academy-Industry Foundation ist die Technologietransferstelle der südkoreanischen Universität POSTECH mit Sitz in Pohang. Die Patente stammen aus Forschungsprojekten in Materialwissenschaft, Elektronik und Chemie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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