Amine Curing Silicon-Nitride-Hydride Films

WO2012048041 Art A2 12. April 2012

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012048041
Aktenzeichen
EP11831545
Anmeldetag
5. Oktober 2011
Veröffentlichung
12. April 2012
Rechtsraum
WO
IPC
C08J7/04C08J5/18C08L83/00C09D183/00H01B3/46
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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