Ferroelectric thin film having superlattice structure, manufacturing method thereof, ferroelectric element, and manufacturing method thereof
WO2012050007
Art A1
19. April 2012
Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012050007
- Aktenzeichen
- EP11832443
- Anmeldetag
- 4. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 19. April 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/316C01G33/00G11C11/22H01L21/314H01L21/8246H01L27/105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute for Materials Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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