Template and substrate treatment method

WO2012050057 Art A1 19. April 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012050057
Aktenzeichen: EP11832492
Anmeldetag: 7. Oktober 2011
Veröffentlichung: 19. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C25D5/02C23F1/02C25D7/12H01L21/288H01L21/306H01L21/31H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von