Lithographic Resist Underlayer Film-Forming Compound That Comprises Resin Including Polyether Structure

WO2012050064 Art A1 19. April 2012

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012050064
Aktenzeichen: EP11832499
Anmeldetag: 7. Oktober 2011
Veröffentlichung: 19. April 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G65/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von