Photocatalytic coating solution and photocatalytic thin film produced from same
WO2012053566
Art A1
26. April 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012053566
- Aktenzeichen
- EP11834405
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 26. April 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J35/02B01J37/02C09D5/16C09D7/12C09D183/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
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