Composition for semiconductor substrate edge polishing and edge polishing method for semiconductor substrate using same
WO2012053616
Art A1
26. April 2012
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012053616
- Aktenzeichen
- EP11834455
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 26. April 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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