Composition for semiconductor substrate edge polishing and edge polishing method for semiconductor substrate using same

WO2012053616 Art A1 26. April 2012

Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012053616
Aktenzeichen
EP11834455
Anmeldetag
20. Oktober 2011
Veröffentlichung
26. April 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Fujimi Incorporated
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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