Process for producing silicon substrate

WO2012057132 Art A1 3. Mai 2012

Anmelder: Wako Pure Chemical Industries, Ltd., National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012057132
Aktenzeichen: EP11836265
Anmeldetag: 25. Oktober 2011
Veröffentlichung: 3. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/04H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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