Copper-containing etchant composition for a metal layer, and etching method using same
WO2012057467
Art A2
3. Mai 2012
Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012057467
- Aktenzeichen
- EP11836559
- Anmeldetag
- 14. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K13/10C23F1/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dongjin Semichem Co., Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Dongjin Semichem
Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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Vertreten von
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