Light source adjustment method, exposure method, device manufacturing method, illumination optical system, and exposure device

WO2012060099 Art A1 10. Mai 2012

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012060099
Aktenzeichen: EP11837753
Anmeldetag: 2. November 2011
Veröffentlichung: 10. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02B5/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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