Lithography using photoresist with photoinitiator and photoinhibitor

WO2012060827 Art A1 10. Mai 2012

Anmelder: Empire Technology Development LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012060827
Aktenzeichen: EP10859365
Anmeldetag: 3. November 2010
Veröffentlichung: 10. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/039G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Empire Technology Development LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Empire Technology Development

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Delaware, das als Patentverwertungsgesellschaft Erfindungen aus verschiedenen Technologiebereichen managt und lizenziert.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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