Methods and apparatus for detecting the confinement state of plasma in a plasma processing system

WO2012061711 Art A1 10. Mai 2012

Anmelder: LAM Research Corporation, Nixon, Ronda K., Shareef, Iqbal A., Wagner, Mark I., Mcandrew, Robert, Kroeker, Tony Ray 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012061711
Aktenzeichen: EP11838878
Anmeldetag: 4. November 2011
Veröffentlichung: 10. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05K3/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: LAM Research Corporation
Nixon, Ronda K.
Shareef, Iqbal A.
Wagner, Mark I.
Mcandrew, Robert
Kroeker, Tony Ray
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von