Method for manufacturing contact holes in cmos device by gate-last process

WO2012062021 Art A1 18. Mai 2012

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012062021
Aktenzeichen: EP11840027
Anmeldetag: 21. Februar 2011
Veröffentlichung: 18. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8238H01L23/52H01L21/28H01L21/336

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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