Metrology method and apparatus, lithographic system and device manufacturing method

WO2012062858 Art A1 18. Mai 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012062858
Aktenzeichen: EP11785632
Anmeldetag: 10. November 2011
Veröffentlichung: 18. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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