Divided sputtering target and method for producing same

WO2012063523 Art A1 18. Mai 2012

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012063523
Aktenzeichen: EP11840106
Anmeldetag: 13. Juli 2011
Veröffentlichung: 18. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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