Radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and acid diffusion regulator

WO2012063840 Art A1 18. Mai 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012063840
Aktenzeichen: EP11840175
Anmeldetag: 8. November 2011
Veröffentlichung: 18. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C211/63C08F220/18G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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