Method for cleaning fine pattern surface of mold, and imprinting device using same

WO2012063948 Art A1 18. Mai 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012063948
Aktenzeichen: EP11839842
Anmeldetag: 11. November 2011
Veröffentlichung: 18. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B29C33/72B29C59/02B81C99/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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