Liquid composition for cleaning semiconductor substrate and method for cleaning semiconductor substrate using same

WO2012066894 Art A1 24. Mai 2012

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012066894
Aktenzeichen: EP11841598
Anmeldetag: 18. Oktober 2011
Veröffentlichung: 24. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/26C11D7/32C11D7/36C11D7/50C11D7/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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