Filtration filter and method for producing same

WO2012067049 Art A1 24. Mai 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012067049
Aktenzeichen: EP11841659
Anmeldetag: 8. November 2011
Veröffentlichung: 24. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B01D71/28B01D69/00B01D69/10B01D69/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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