Polymer compound, and resist-protecting film composition including same for a liquid immersion exposure process

WO2012067349 Art A2 24. Mai 2012

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012067349
Aktenzeichen: EP11841421
Anmeldetag: 14. Oktober 2011
Veröffentlichung: 24. Mai 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/10C08F22/06C08F12/14C08L33/04G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von