Method and apparatus for surface treatment using inorganic acid and ozone

WO2012073176 Art A1 7. Juni 2012

Anmelder: Lam Research AG 🇦🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012073176
Aktenzeichen: EP11844161
Anmeldetag: 28. November 2011
Veröffentlichung: 7. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Lam Research AG
Land: 🇦🇹 Österreich

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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