Polymer for lithography, process for manufaturing same, and resist resin for semiconductors

WO2012073968 Art A1 7. Juni 2012

Anmelder: Kyoto University, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012073968
Aktenzeichen: EP11845046
Anmeldetag: 29. November 2011
Veröffentlichung: 7. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08F2/38G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Kyoto University
Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyoto University

Renommierte japanische Universität mit breiter Grundlagenforschung in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.706 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

341 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von